उच्च शुद्धता: रासायनिक वाष्प संचय (CVD) द्वारे वाढलेल्या सिलिकॉन एपिटॅक्सियल लेयरमध्ये पारंपारिक वेफर्सपेक्षा अत्यंत उच्च शुद्धता, पृष्ठभागाची सपाटता आणि कमी दोष घनता असते.
सॉलिड सिलिकॉन कार्बाईड (एसआयसी) त्याच्या अद्वितीय भौतिक गुणधर्मांमुळे सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमधील एक महत्त्वाची सामग्री बनली आहे. खाली त्याचे फायदे आणि व्यावहारिक मूल्यांचे विश्लेषण केले गेले आहे आणि त्याच्या भौतिक गुणधर्मांवर आणि सेमीकंडक्टर उपकरणांमधील विशिष्ट अनुप्रयोगांवर आधारित (जसे की वेफर कॅरियर, शॉवर हेड्स, एचिंग फोकस रिंग्ज इ.).
आम्ही तुम्हाला एक चांगला ब्राउझिंग अनुभव देण्यासाठी, साइट रहदारीचे विश्लेषण करण्यासाठी आणि सामग्री वैयक्तिकृत करण्यासाठी कुकीज वापरतो. ही साइट वापरून, तुम्ही आमच्या कुकीजच्या वापरास सहमती देता.
गोपनीयता धोरण