सिलिकॉन कार्बाइड एपिटॅक्सी

उच्च-गुणवत्तेच्या सिलिकॉन कार्बाइड एपिटॅक्सीची तयारी प्रगत तंत्रज्ञान आणि उपकरणे आणि उपकरणे उपकरणे यावर अवलंबून असते. सध्या, सिलिकॉन कार्बाइड एपिटॅक्सी ग्रोथ पद्धत सर्वात जास्त वापरली जाणारी रासायनिक वाष्प जमा करणे (CVD) आहे. यात एपिटॅक्सियल फिल्मची जाडी आणि डोपिंग एकाग्रता, कमी दोष, मध्यम वाढीचा दर, स्वयंचलित प्रक्रिया नियंत्रण इत्यादींचे अचूक नियंत्रण करण्याचे फायदे आहेत आणि हे एक विश्वासार्ह तंत्रज्ञान आहे जे यशस्वीरित्या व्यावसायिकरित्या लागू केले गेले आहे.

सिलिकॉन कार्बाइड सीव्हीडी एपिटॅक्सी सामान्यत: हॉट वॉल किंवा उबदार वॉल सीव्हीडी उपकरणे स्वीकारते, जे उच्च वाढ तापमान परिस्थितीत (1500 ~ 1700℃), गरम भिंत किंवा उबदार वॉल CVD च्या विकासाच्या वर्षांनंतर एपिटॅक्सी लेयर 4H क्रिस्टलीय SiC चालू ठेवण्याची खात्री देते. इनलेट एअर फ्लो दिशा आणि सब्सट्रेट पृष्ठभाग यांच्यातील संबंध, प्रतिक्रिया कक्ष क्षैतिज रचना अणुभट्टी आणि अनुलंब संरचना अणुभट्टीमध्ये विभागली जाऊ शकते.

एसआयसी एपिटॅक्सियल फर्नेसच्या गुणवत्तेसाठी तीन मुख्य निर्देशक आहेत, पहिले एपिटॅक्सियल वाढ कार्यप्रदर्शन आहे, ज्यामध्ये जाडी एकसमानता, डोपिंग एकसमानता, दोष दर आणि वाढीचा दर समाविष्ट आहे; दुसरे म्हणजे उपकरणांचे स्वतःचे तापमान कार्यप्रदर्शन, ज्यामध्ये हीटिंग/कूलिंग रेट, कमाल तापमान, तापमान एकसारखेपणा समाविष्ट आहे; शेवटी, एका युनिटची किंमत आणि क्षमता यासह उपकरणाची स्वतःची किंमत कामगिरी.

तीन प्रकारचे सिलिकॉन कार्बाइड एपिटॅक्सियल ग्रोथ फर्नेस आणि कोर ॲक्सेसरीज फरक

हॉट वॉल क्षैतिज CVD (LPE कंपनीचे ठराविक मॉडेल PE1O6), उबदार वॉल प्लॅनेटरी CVD (नमुनेदार मॉडेल Aixtron G5WWC/G10) आणि अर्ध-हॉट वॉल CVD (नुफ्लेअर कंपनीच्या EPIREVOS6 द्वारे प्रस्तुत) ही मुख्य प्रवाहातील एपिटॅक्सियल उपकरणे आहेत जी वास्तविक आहेत. या टप्प्यावर व्यावसायिक अनुप्रयोगांमध्ये. तीन तांत्रिक उपकरणांची स्वतःची वैशिष्ट्ये देखील आहेत आणि मागणीनुसार निवडली जाऊ शकतात. त्यांची रचना खालीलप्रमाणे दर्शविली आहे:

संबंधित मुख्य घटक खालीलप्रमाणे आहेत:

(a) गरम भिंतीचा आडवा प्रकार कोर भाग- हाफमून पार्ट्स असतात

डाउनस्ट्रीम इन्सुलेशन

मुख्य इन्सुलेशन वरच्या

वरचा अर्धचंद्र

अपस्ट्रीम इन्सुलेशन

संक्रमण तुकडा 2

संक्रमण तुकडा 1

बाह्य हवा नोजल

टॅपर्ड स्नॉर्कल

बाह्य आर्गॉन गॅस नोजल

आर्गॉन गॅस नोजल

वेफर सपोर्ट प्लेट

मध्यभागी पिन

केंद्रीय रक्षक

डाउनस्ट्रीम डाव्या संरक्षण कव्हर

डाउनस्ट्रीम उजवे संरक्षण कव्हर

अपस्ट्रीम डाव्या संरक्षण कव्हर

अपस्ट्रीम उजव्या संरक्षण कव्हर

बाजूची भिंत

ग्रेफाइट रिंग

संरक्षक वाटले

आधार वाटला

संपर्क ब्लॉक

गॅस आउटलेट सिलेंडर

(b) उबदार भिंतीचा ग्रह प्रकार

SiC कोटिंग प्लॅनेटरी डिस्क आणि TaC लेपित प्लॅनेटरी डिस्क

नुफ्लरे (जपान): ही कंपनी दुहेरी-चेंबर उभ्या भट्टी देते जे उत्पादन वाढीसाठी योगदान देते. उपकरणांमध्ये प्रति मिनिट 1000 क्रांती पर्यंत उच्च-गती रोटेशन वैशिष्ट्यीकृत आहे, जे एपिटॅक्सियल एकरूपतेसाठी अत्यंत फायदेशीर आहे. याव्यतिरिक्त, त्याची वायुप्रवाह दिशा इतर उपकरणांपेक्षा वेगळी आहे, अनुलंब खाली असल्याने, त्यामुळे कणांची निर्मिती कमी होते आणि कणांचे थेंब वेफर्सवर पडण्याची शक्यता कमी करते. आम्ही या उपकरणासाठी कोर SiC कोटेड ग्रेफाइट घटक प्रदान करतो.

SiC epitaxial उपकरणे घटकांचा पुरवठादार म्हणून, VeTek Semiconductor ग्राहकांना SiC epitaxy च्या यशस्वी अंमलबजावणीला समर्थन देण्यासाठी उच्च-गुणवत्तेचे कोटिंग घटक प्रदान करण्यासाठी वचनबद्ध आहे.

View as

सीव्हीडी एसआयसी लेपित वेफर स्यूससेप्टर

वेटेकेसेमॉनचे सीव्हीडी एसआयसी लेपित वेफर स्यूससेप्टर सेमीकंडक्टर एपिटॅक्सियल प्रक्रियेसाठी एक अत्याधुनिक समाधान आहे, जे अल्ट्रा-उच्च शुद्धता (≤100 पीपीबी, आयसीपी-ई 10 प्रमाणित) आणि गॅन, एसआयसी-आधारित दूषित-प्रतिरोधक वाढीसाठी अपवादात्मक थर्मल/रासायनिक स्थिरता प्रदान करते. अचूक सीव्हीडी तंत्रज्ञानासह अभियंता, आयटी 6 "/8"/12 "वेफर्सना समर्थन देते, कमीतकमी थर्मल तणाव सुनिश्चित करते आणि 1600 डिग्री सेल्सिअस पर्यंत अत्यंत तापमानाचा प्रतिकार करते.

अधिक प i हा >> चौकशी पाठवा >>

एपिटॅक्सीसाठी एसआयसी लेपित सीलिंग रिंग

एपिटॅक्सीसाठी आमची एसआयसी कोटेड सीलिंग रिंग हा एक उच्च-कार्यक्षमता सीलिंग घटक आहे जो ग्राफाइट किंवा कार्बन-कार्बन कंपोझिटवर आधारित आहे की उच्च-शुद्धता सिलिकॉन कार्बाइड (एसआयसी) सह लेपित केमिकल वाष्प सिलिकॉन कार्बाइड (सीसी)

अधिक प i हा >> चौकशी पाठवा >>

सिंगल वेफर एपीआय ग्रेफाइट अंडरटेकर

वेटेकेसेमॉन सिंगल वेफर एपीआय ग्रॅफाइट सासेप्टर हाय-परफॉरमन्स सिलिकॉन कार्बाइड (एसआयसी), गॅलियम नायट्राइड (जीएएन) आणि इतर तृतीय पिढी सेमीकंडक्टर एपिटॅक्सियल प्रक्रियेसाठी डिझाइन केलेले आहे आणि मोठ्या प्रमाणात उत्पादनात उच्च-पिसारा एपिटेक्सियल शीटचा मुख्य घटक आहे. आपली पुढील चौकशी.

अधिक प i हा >> चौकशी पाठवा >>

सीव्हीडी एसआयसी फोकस रिंग

वेटेक सेमीकंडक्टर हे सेमीकंडक्टर उद्योगासाठी उच्च-कार्यक्षमता, उच्च-विश्वासार्हता उत्पादन समाधान प्रदान करण्यासाठी समर्पित सीव्हीडी एसआयसी फोकस रिंग्जचे एक आघाडीचे घरगुती निर्माता आणि पुरवठादार आहे. वेटेक सेमीकंडक्टरच्या सीव्हीडी एसआयसी फोकस रिंग्ज प्रगत रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) तंत्रज्ञानाचा वापर करतात, उत्कृष्ट तापमान प्रतिरोध, गंज प्रतिरोध आणि थर्मल चालकता आहे आणि सेमीकंडक्टर लिथोग्राफी प्रक्रियेत मोठ्या प्रमाणात वापरला जातो. आपल्या चौकशीचे नेहमीच स्वागत आहे.

अधिक प i हा >> चौकशी पाठवा >>

आयएक्सट्रॉन जी 5+ कमाल मर्यादा घटक

वेटेक सेमीकंडक्टर त्याच्या उत्कृष्ट प्रक्रिया क्षमतांसह अनेक एमओसीव्हीडी उपकरणांसाठी उपभोग्य वस्तूंचा पुरवठादार बनला आहे. आयएक्सट्रॉन जी 5+ कमाल मर्यादा घटक आमच्या नवीनतम उत्पादनांपैकी एक आहे, जे मूळ ix ट्रॉन घटकासारखेच आहे आणि ग्राहकांकडून चांगला अभिप्राय मिळाला आहे. आपल्याला अशा उत्पादनांची आवश्यकता असल्यास, कृपया वेटेक सेमीकंडक्टरशी संपर्क साधा!

अधिक प i हा >> चौकशी पाठवा >>

MOCVD एपिटॅक्सियल वेफर प्रदान करते

वेटेक सेमीकंडक्टर बर्‍याच काळापासून सेमीकंडक्टर एपिटॅक्सियल ग्रोथ इंडस्ट्रीमध्ये गुंतले आहे आणि एमओसीव्हीडी एपिटॅक्सियल वेफर स्यूससेप्टर उत्पादनांमध्ये समृद्ध अनुभव आणि प्रक्रिया कौशल्य आहे. आज, वेटेक सेमीकंडक्टर चीनचे आघाडीचे एमओसीव्हीडी एपिटॅक्सियल वेफर स्यूससेप्टर निर्माता आणि पुरवठादार बनले आहे आणि जीएएन एपिटॅक्सियल वेफर्स आणि इतर उत्पादनांच्या निर्मितीमध्ये ते प्रदान केलेल्या वेफर स्यूससेप्टर्सनी महत्त्वपूर्ण भूमिका बजावली आहे.

अधिक प i हा >> चौकशी पाठवा >>

चीनमधील एक व्यावसायिक सिलिकॉन कार्बाइड एपिटॅक्सी निर्माता आणि पुरवठादार म्हणून आमच्याकडे आमचा स्वतःचा कारखाना आहे. आपल्या प्रदेशाच्या विशिष्ट गरजा भागविण्यासाठी आपल्याला सानुकूलित सेवांची आवश्यकता असल्यास किंवा चीनमध्ये बनविलेले प्रगत आणि टिकाऊ {77 brook खरेदी करायचे असल्यास आपण आम्हाला एक संदेश सोडू शकता.