बातम्या

उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट, CVD SiC/TaC कोटेड घटक, ठोस SiC भाग आणि सानुकूल सेमीकंडक्टर सोल्यूशन्ससाठी VeTek सेमीकंडक्टरच्या CNC अचूक मशीनिंग क्षमता शोधा.

व्हेटेक सेमीकंडक्टरने चीनमधील वूशी येथे CSEAC 2026 मध्ये भाग घेतला आणि त्याचे प्रगत CVD SiC आणि TaC कोटिंग्ज, ग्रेफाइट घटक, SiC सिरॅमिक्स आणि इतर सेमीकंडक्टर कोर मटेरियलचे प्रदर्शन केले. या कार्यक्रमाने ग्राहक भागीदारी मजबूत करण्यासाठी, नवीन तंत्रज्ञानावर चर्चा करण्यासाठी, सहकार्य प्रकल्पांना प्रगतीपथावर आणण्यासाठी आणि जागतिक सेमीकंडक्टर उद्योगातील भविष्यातील संधी शोधण्यासाठी मौल्यवान संधी प्रदान केल्या.

VETEK सेमीकंडक्टर सहा प्रमुख उत्पादन श्रेणींमध्ये माहिर आहे, ज्यात CVD SiC कोटिंग्स, CVD TaC कोटिंग्स, सॉलिड SiC, उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट आणि कार्बन फायबर, क्वार्ट्ज आणि प्रगत सिरॅमिक्स आणि सेमीकंडक्टर वेफर्स यांचा समावेश आहे. आमची उत्पादने एपिटॅक्सी, एचिंग आणि क्रिस्टल ग्रोथ यासारख्या गंभीर सेमीकंडक्टर प्रक्रिया करतात. दुहेरी R&D प्लॅटफॉर्म, एक पूर्णत: एकात्मिक उत्पादन प्रणाली आणि जागतिक पुरवठा क्षमतांसह, आम्हाला राष्ट्रीय विशेषीकृत आणि अत्याधुनिक "लिटल जायंट" एंटरप्राइझ म्हणून ओळखले जाते.

VETEK च्या नवीन सेमीकंडक्टर उत्पादन सुविधाने सेमीकंडक्टर-ग्रेड क्लीनरूम बांधकाम टप्प्यात प्रवेश केला आहे. नवीन साइट CVD SiC लेपित ग्रेफाइट घटक, TaC कोटिंग्स, PyC कोटिंग्ज, सॉलिड SiC भाग आणि सेमीकंडक्टर ऍप्लिकेशन्ससाठी उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट सामग्रीच्या उत्पादनास समर्थन देईल.

VeTek सेमीकंडक्टर SNEC 2026 शांघाय मधील प्रमुख अंतर्दृष्टी सामायिक करतो, उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट, CVD SiC कोटेड ग्रेफाइट घटक, कार्बन कंपोझिट, आणि पुढील पिढीतील सौर उत्पादन आणि फोटोव्होल्टेइक उत्पादनास समर्थन देणारी प्रगत थर्मल फील्ड सामग्री हायलाइट करते.

VETEK त्याच्या नवीन सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग बेसचा टॉपिंग-आउट सोहळा साजरा करत आहे, प्रगत SiC, TaC आणि PyC कोटिंग तंत्रज्ञान, सॉलिड SiC घटक, उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट भाग आणि सेमीकंडक्टर थर्मल फील्ड सामग्रीसाठी उत्पादन क्षमता वाढवत आहे.

September सप्टेंबर रोजी, वेटेक सेमीकंडक्टरच्या ग्राहकांनी एसआयसी कोटिंग आणि टीएसी कोटिंग कारखान्यांना भेट दिली आणि नवीनतम एपिटॅक्सियल प्रक्रियेच्या समाधानावर पुढील करार केले.

5 सप्टेंबर 2025 रोजी, पोलंडमधील एका ग्राहकाने कार्बन फायबर उत्पादनांच्या उत्पादनातील आमच्या प्रगत तंत्रज्ञान आणि नाविन्यपूर्ण प्रक्रियांबद्दल जाणून घेण्यासाठी VETEK अंतर्गत कारखान्याला भेट दिली.

SiC-कोटेड ग्रेफाइट वेफर वाहक हे GaN आणि LED epitaxy साठी MOCVD सिस्टीममधील गंभीर थर्मल आणि यांत्रिक घटक आहेत. हा तांत्रिक लेख वाहक भूमिती, खिशाची खोली, सपाटपणा, ग्रेफाइट गुणधर्म आणि CVD SiC कोटिंग स्थिती वेफर तापमान वितरण, एपिटॅक्सियल एकसमानता आणि प्रक्रिया पुनरावृत्ती होण्यावर कसा प्रभाव पाडतो हे स्पष्ट करतो. हे थर्मल एकरूपता आणि डिव्हाइस उत्पन्न, सामान्य कोटिंग डिग्रेडेशन यंत्रणा, सेवा-जीवन विचार आणि सानुकूल किंवा बदली MOCVD वेफर वाहक निर्दिष्ट करताना आवश्यक अभियांत्रिकी डेटा यांच्यातील संबंध देखील तपासते.

SiC-कोटेड ग्रेफाइट उच्च-शुद्धता असलेल्या ग्रेफाइटची मशीनिबिलिटी आणि थर्मल वर्तन रासायनिकदृष्ट्या स्थिर CVD सिलिकॉन कार्बाइड प्रक्रिया पृष्ठभागासह एकत्र करते. हे तांत्रिक श्वेतपत्र स्पष्ट करते की बेअर ग्रेफाइट रासायनिक परस्परसंवाद, अशुद्धता आणि एपिटॅक्सी अणुभट्ट्यांमधील कणांचा स्रोत का बनू शकतो, CVD SiC अधिक स्थिर प्रक्रियेची सीमा कशी निर्माण करते आणि कोटिंगची अखंडता, सब्सट्रेट सुसंगतता, भूमिती आणि थर्मल वर्तन एकत्र का तयार केले जाणे आवश्यक आहे. हे सिलिकॉन आणि SiC एपिटॅक्सीच्या विविध मागण्यांचे परीक्षण करते आणि अर्धसंवाहक अनुप्रयोगांसाठी कोटेड ससेप्टर्स कसे निर्दिष्ट केले जावेत याची रूपरेषा दर्शवते.

SiC-कोटेड ग्रेफाइट ससेप्टर हा सेमीकंडक्टर एपिटॅक्सीमध्ये फक्त वेफर होल्डरऐवजी एक गंभीर थर्मल-फील्ड घटक आहे. हा तांत्रिक लेख स्पष्ट करतो की ससेप्टर भूमिती, सपाटपणा, पॉकेट डिझाइन, ग्रेफाइट गुणधर्म आणि CVD SiC कोटिंग गुणवत्ता वेफर थर्मल सीमा, तापमान वितरण आणि एपिटॅक्सियल एकरूपता प्रभावित करण्यासाठी एकत्रितपणे कसे कार्य करतात. हे सामान्य ससेप्टर फेल्युअर मोड, कोटिंग डिग्रेडेशन, पार्टिकल जोखीम आणि कस्टम किंवा रिप्लेसमेंट एपिटॅक्सी ससेप्टर निर्दिष्ट करताना आवश्यक असलेल्या मुख्य अभियांत्रिकी पॅरामीटर्सचे देखील परीक्षण करते.

CVD सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग नियंत्रित गॅस-फेज आणि पृष्ठभागाच्या प्रतिक्रियांद्वारे उच्च-शुद्धता ग्रेफाइटवर दाट SiC थर जमा करून तयार केले जाते. हा लेख सब्सट्रेट तयार करणे, MTS-आधारित CVD वाढ, न्यूक्लिएशन आणि मास ट्रान्सफर, कोटिंगची जाडी आणि एकसमानता, SiC/ग्रेफाइट इंटरफेस ताण, सामान्य दोष आणि सेमीकंडक्टर-ग्रेड तपासणी स्पष्ट करतो. एपिटॅक्सी आणि MOCVD मध्ये वापरल्या जाणाऱ्या ससेप्टर्स आणि वेफर वाहकांसाठी प्रक्रिया पॅरामीटर्स आणि घटक भूमिती एकत्र का तयार केली जाणे आवश्यक आहे हे देखील ते दर्शवते.

सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग हा सेमीकंडक्टर प्रक्रियेमध्ये वापरल्या जाणाऱ्या उच्च-शुद्धतेच्या ग्रेफाइट घटकांवर लागू केलेला दाट CVD SiC स्तर आहे. हा लेख ग्रेफाइटला SiC सह का लेपित केले जाते, CVD SiC कसे तयार होते, कोणते कोटिंग गुणधर्म आणि इंटरफेस घटक कार्यप्रदर्शन नियंत्रित करतात आणि SiC-coated ग्रेफाइट सिलिकॉन एपिटॅक्सी, SiC epitaxy आणि MOCVD ला कसे समर्थन देतात हे स्पष्ट करते. हे कोटिंगची जाडी, CTE विसंगतता, डिलेमिनेशन जोखीम आणि ससेप्टर्स, वेफर कॅरियर आणि इतर कोटेड घटक निर्दिष्ट करताना आवश्यक असलेली अभियांत्रिकी माहिती देखील तपासते.

CVD SiC आणि TaC कोटिंग्स थर्मल स्थिरता, दूषितता, कण आणि सेमीकंडक्टर एपिटॅक्सीमध्ये पुनरावृत्तीक्षमतेवर कसा प्रभाव पाडतात यावरील तांत्रिक श्वेतपत्र, पॅरामीटर टेबल, कोटिंग-निवड निर्णय वृक्ष, अपयश यंत्रणा आणि RFQ निकषांसह.

8-इंच SiC आता व्हॉल्यूम उत्पादनात आहे, परंतु वेफर उत्पन्न — क्षमता नाही — विजेत्यांना वेगळे करते. हे मार्गदर्शक स्पष्ट करते की ग्रेफाइट हॉट-झोन भागांवरील TaC कोटिंग उत्पन्न का ठरवते आणि पुरवठादाराला कसे पात्र ठरवायचे.

आधुनिक चिप मॅन्युफॅक्चरिंगमध्ये, सब्सट्रेट भौतिक आधार आणि उष्णता नष्ट होण्याचा मार्ग प्रदान करते, तर एपिटॅक्सियल लेयर डिव्हाइसची विद्युत कार्यक्षमता मर्यादा निर्धारित करते. हा लेख सिंगल-क्रिस्टल सिलिकॉन आणि सिलिकॉन कार्बाइड सब्सट्रेट्स आणि CVD/MBE एपिटॅक्सियल प्रक्रियांमधील मूलभूत फरकांचे सखोल विश्लेषण प्रदान करतो आणि इंजिनच्या डेन्सिटीमध्ये दोष कमी करून उच्च-फ्रिक्वेंसी आणि उच्च-व्होल्टेज उपकरणांचे कार्यप्रदर्शन कसे वाढवते ते उघड करते. तुम्ही प्रक्रिया अभियंता असाल किंवा खरेदीचे निर्णय घेणारे आहात, हे मार्गदर्शक तुम्हाला सर्वात योग्य वेफर निवड धोरण पटकन ओळखण्यात मदत करेल.