उच्च-शुद्धता CVD SiC लेपित वेफर बोट

1. मुख्य कार्यप्रदर्शन घटक?

• 7N स्तरावर शुद्धता:आम्ही 99.99999% (7N) शुद्धता मानक राखतो. लाँग ड्राईव्ह-इन किंवा ऑक्सिडेशन स्टेप्स दरम्यान मेटल दूषित पदार्थांना वेफरमध्ये स्थलांतरित होण्यापासून रोखण्यासाठी हे गैर-निगोशिएबल आहे.
• CVD सील (50–300μm):आम्ही फक्त पृष्ठभाग "पेंट" करत नाही. आमचा 50–300μm CVD SiC लेयर सब्सट्रेटवर एकूण सील तयार करतो. हे सच्छिद्रता काढून टाकते, म्हणजे बोट रसायने अडकणार नाही किंवा प्रतिक्रियाशील वायूंच्या वारंवार संपर्कात आल्यावर किंवा आक्रमक SPM/DHF साफसफाई करूनही कण टाकणार नाही.
• थर्मल कडकपणा:सिलिकॉन कार्बाइडचा नैसर्गिक कमी थर्मल विस्तार या बोटी सरळ ठेवतो. रॅपिड थर्मल एनीलिंग (आरटीए) दरम्यान ते झुकणार नाहीत किंवा वळणार नाहीत, हे सुनिश्चित करून की रोबोट आर्म जॅम न करता नेहमी योग्य स्लॉटला मारतो.
• शाश्वत उत्पन्न:पृष्ठभाग कमी उपउत्पादन आसंजन साठी अभियंता आहे. कमी जमा होणे म्हणजे तुमच्या वेफर्सवर कमी कण आदळणे आणि ओले-बेंच क्लिनिंग सायकल दरम्यान जास्त धावणे.
• सानुकूल भूमिती:प्रत्येक फॅबचा स्वतःचा सेटअप असतो. तुम्ही क्षैतिज भट्टी चालवत असाल किंवा उभ्या 300 मिमी स्वयंचलित रेषा चालवत असाल तरीही आम्ही या तुमच्या विशिष्ट पिच आणि स्लॉट ड्रॉइंगवर मशीन करतो.

2. प्रक्रिया सुसंगतता

• वातावरण:TMGa, AsH₃ आणि उच्च एकाग्रता O₂ वातावरणास प्रतिरोधक.
• थर्मल रेंज:1400°C पर्यंत स्थिर दीर्घकालीन ऑपरेशन.
• साहित्य:लॉजिक, पॉवर आणि ॲनालॉग वेफर्सच्या ऑक्सिडेशन आणि डिफ्यूजन प्रक्रियेसाठी विशेषतः इंजिनिअर केलेले.