बातम्या

उद्योग बातम्या

सेमीकंडक्टर प्रक्रिया: रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी)07 2024-11

सेमीकंडक्टर प्रक्रिया: रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी)

सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमधील केमिकल वाफ डिपॉझिशन (सीव्हीडी) चा वापर चेंबरमध्ये पातळ फिल्म मटेरियल जमा करण्यासाठी केला जातो, ज्यात एसआयओ 2, पाप इत्यादींचा समावेश आहे आणि सामान्यत: वापरल्या जाणार्‍या प्रकारांमध्ये पीईसीव्हीडी आणि एलपीसीव्हीडीचा समावेश आहे. तापमान, दबाव आणि प्रतिक्रिया गॅस प्रकार समायोजित करून, सीव्हीडी वेगवेगळ्या प्रक्रियेच्या आवश्यकता पूर्ण करण्यासाठी उच्च शुद्धता, एकसारखेपणा आणि चांगले फिल्म कव्हरेज प्राप्त करते.
सिलिकॉन कार्बाईड सिरेमिक्समध्ये सिन्टरिंग क्रॅकच्या समस्येचे निराकरण कसे करावे? - वेटेक सेमीकंडक्टर29 2024-10

सिलिकॉन कार्बाईड सिरेमिक्समध्ये सिन्टरिंग क्रॅकच्या समस्येचे निराकरण कसे करावे? - वेटेक सेमीकंडक्टर

हा लेख प्रामुख्याने सिलिकॉन कार्बाइड सिरॅमिक्सच्या व्यापक उपयोगाच्या संभाव्यतेचे वर्णन करतो. हे सिलिकॉन कार्बाइड सिरॅमिक्समधील सिंटरिंग क्रॅकच्या कारणांचे विश्लेषण आणि संबंधित उपायांवर देखील लक्ष केंद्रित करते.
X
आम्ही तुम्हाला एक चांगला ब्राउझिंग अनुभव देण्यासाठी, साइट रहदारीचे विश्लेषण करण्यासाठी आणि सामग्री वैयक्तिकृत करण्यासाठी कुकीज वापरतो. ही साइट वापरून, तुम्ही आमच्या कुकीजच्या वापरास सहमती देता.गोपनीयता धोरण
नकार द्यास्वीकारा