सेमीकंडक्टर फील्डमधील टीएसी लेपित भागांचे विशिष्ट अनुप्रयोग काय आहे?

टँटलम कार्बाईड (टीएसी) कोटिंगचे भौतिक गुणधर्म

सेमीकंडक्टर फील्डमध्ये टँटलम कार्बाईड (टीएसी) कोटिंगचा अर्ज

1. एपिटॅक्सियल ग्रोथ अणुभट्टी घटक

टीएसी कोटिंगचा मोठ्या प्रमाणात रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) गॅलियम नायट्राइड (जीएएन) एपिटॅक्सियल आणि सिलिकॉन कार्बाइड (एसआयसी) एपिटॅक्सियलच्या अणुभट्टी घटकांमध्ये वापरला जातो, यासहवेफर कॅरियर्स, उपग्रह डिशेस, नोजल आणि सेन्सर. या घटकांना उच्च तापमान आणि संक्षारक वातावरणामध्ये अत्यंत उच्च टिकाऊपणा आणि स्थिरता आवश्यक आहे. टीएसी कोटिंग त्यांचे सेवा जीवन प्रभावीपणे वाढवू शकते आणि उत्पन्न सुधारू शकते.

2. सिंगल क्रिस्टल ग्रोथ घटक

एसआयसी, गॅन आणि अ‍ॅल्युमिनियम नायट्राइड (एआयएन) सारख्या सामग्रीच्या सिंगल क्रिस्टल ग्रोथ प्रक्रियेमध्ये,टीएसी कोटिंगक्रूसीबल्स, बियाणे क्रिस्टल धारक, मार्गदर्शक रिंग्ज आणि फिल्टर यासारख्या मुख्य घटकांवर लागू केले जाते. टीएसी कोटिंगसह ग्रेफाइट सामग्री अशुद्धतेचे स्थलांतर कमी करू शकते, क्रिस्टल गुणवत्ता सुधारू शकते आणि दोष घनता कमी करू शकते.

3. उच्च तापमान औद्योगिक घटक

टीएसी कोटिंगचा वापर उच्च तापमान औद्योगिक अनुप्रयोगांमध्ये केला जाऊ शकतो जसे प्रतिरोधक हीटिंग घटक, इंजेक्शन नोजल, शिल्डिंग रिंग्ज आणि ब्रेझिंग फिक्स्चर. या घटकांना उच्च-तापमान वातावरणात चांगली कार्यक्षमता राखण्याची आवश्यकता आहे आणि टीएसीचा उष्णता प्रतिकार आणि गंज प्रतिकार यामुळे एक आदर्श निवड आहे.

4. एमओसीव्हीडी सिस्टममधील हीटर

टीएसी-लेपित ग्रेफाइट हीटर मेटल सेंद्रिय रासायनिक वाष्प जमा (एमओसीव्हीडी) सिस्टममध्ये यशस्वीरित्या सादर केले गेले आहेत. पारंपारिक पीबीएन-लेपित हीटरच्या तुलनेत, टीएसी हीटर चांगली कार्यक्षमता आणि एकरूपता प्रदान करू शकतात, उर्जा वापर कमी करू शकतात आणि पृष्ठभागाचे प्रमाण कमी करू शकतात, ज्यामुळे अखंडता सुधारते.

5. वेफर कॅरियर

टीएसी-लेपित वेफर कॅरियर्स एसआयसी, एआयएन आणि गॅन सारख्या तृतीय-पिढीतील सेमीकंडक्टर सामग्रीच्या तयारीत महत्त्वपूर्ण भूमिका बजावतात. अभ्यासानुसार असे दिसून आले आहे की गंज दरटीएसी कोटिंग्जउच्च-तापमानात अमोनिया आणि हायड्रोजन वातावरण त्यापेक्षा खूपच कमी आहेSic कोटिंग्ज, ज्यामुळे ते दीर्घकालीन वापरामध्ये स्थिरता आणि टिकाऊपणा दर्शवते.