वेटेक सेमीकंडक्टर वेफर प्रोसेसिंग तंत्रज्ञान, हस्तांतरण आणि इतर दुवे, बाँडिंग, स्क्रिबिंग, पॅच, पॉलिशिंग आणि इतर दुवे, लेसर प्रोसेसिंगसाठी योग्य प्रमाणात वापरल्या जाणार्या सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक चक ऑफर करतात. आमच्या सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक चकमध्ये अल्ट्रा-स्ट्रॉंग व्हॅक्यूम सोशोशन, उच्च सपाटपणा आणि उच्च शुद्धता बहुतेक सेमीकंडक्टर उद्योगांच्या गरजा भागवते. आम्हाला चौकशी करण्यासाठी.
वेटेक सेमीकंडक्टरच्या सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक चक बर्याच ग्राहकांकडून चांगलेच स्वागत केले आहे आणि बर्याच देशांमध्ये चांगली प्रतिष्ठा मिळाली आहे. सच्छिद्र सिरेमिक व्हॅकम चकबद्दल अधिक माहितीसाठी वेटेक सेमीकंडक्टर सच्छिद्र सिरेमिक व्हॅकम चकमध्ये वैशिष्ट्यपूर्ण डिझाइन आणि व्यावहारिक कामगिरी आणि स्पर्धात्मक किंमत आहे, कृपया आमच्याशी संपर्क साधा मोकळ्या मनाने.
सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक चक यांना मायक्रो-पोर्सिटी व्हॅक्यूम कप देखील म्हणतात, सामान्य पोर्सिटी 2 ~ 100um आकारात समायोजित केली जाऊ शकते, एकसमान घन किंवा व्हॅक्यूम गोला तयार करण्यासाठी विशेष नॅनो पावडर उत्पादन प्रक्रियेचा संदर्भ देते, मोठ्या संख्येने कनेक्ट केलेल्या किंवा बंद कोरीम सामग्री तयार करण्यासाठी सामग्रीमध्ये उच्च तापमानात सिंटरिंगद्वारे. त्याच्या विशेष संरचनेसह, त्यात उच्च तापमान प्रतिरोध, परिधान प्रतिरोध, रासायनिक गंज प्रतिकार, उच्च यांत्रिक शक्ती, सुलभ पुनर्जन्म आणि उत्कृष्ट थर्मल शॉक प्रतिरोध इ. चे फायदे आहेत, ज्याचा उपयोग उच्च तापमान गाळण्याची प्रक्रिया सामग्री, उत्प्रेरक वाहक, संवेदनशील घटकांचे सच्छिद्र इलेक्ट्रोड्स, संवेदनशील घटक, पर्यावरणीय प्रोटेक्शन्स, बायोसेरॅमिक्स दर्शविते, बायोकेमिस्ट्री आणि इतर फील्ड.
सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक चकला सेमीकंडक्टर वेफर प्रोसेसिंग आणि ट्रान्सफर प्रक्रियेमध्ये विस्तृत अनुप्रयोग सापडतात. हे बाँडिंग, स्क्रिबिंग, डाय अटॅचमेंट, पॉलिशिंग आणि लेसर मशीनिंग यासारख्या कार्यांसाठी योग्य आहे.
आमचे फायदे:
सानुकूलनः आम्ही आपल्या वेफरच्या आकार आणि सामग्री तसेच आपल्या विशिष्ट उपकरणे आणि ऑपरेशनल परिस्थितीशी उत्तम प्रकारे जुळण्यासाठी घटकांचे अनुरुप आहोत.
मितीय सुस्पष्टता: आम्ही आपल्या अचूक वैशिष्ट्यांना पूर्ण करण्यासाठी मितीय सुस्पष्टता प्राप्त करू शकतो. उदाहरणार्थ, आम्ही 8 इंचाच्या वेफर्ससाठी 3μm पेक्षा कमी सपाटपणा आणि 5μm पेक्षा कमी सपाटपणा असलेल्या 12 इंचाच्या वेफर्ससाठी चक्स तयार करू शकतो.
छिद्र आकार आणि पोर्सिटी: आमच्या सच्छिद्र सिरेमिक चक्समध्ये 20-50μm पर्यंतचे छिद्र आकार आणि 35-55%दरम्यान पोर्सिटी पातळी दर्शविली जाते, ज्यामुळे विविध प्रक्रिया अनुप्रयोगांमध्ये इष्टतम कामगिरी सुनिश्चित होते.
आपल्याला एकाधिक वर्कपीससाठी मूल्यांकन करण्यासाठी किंवा सानुकूलित चक्सची आवश्यकता असल्यास, आम्ही आपल्या मितीय आणि भौतिक आवश्यकता सुस्पष्टतेसह पूर्ण करण्यासाठी समर्पित आहोत आणि
उत्कृष्टता. पुढील चौकशीसाठी किंवा आपल्या विशिष्ट गरजा चर्चा करण्यासाठी आमच्यापर्यंत संपर्क साधा.
मायक्रोस्कोप अंतर्गत सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक चक उत्पादन चित्र
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
आम्ही तुम्हाला एक चांगला ब्राउझिंग अनुभव देण्यासाठी, साइट रहदारीचे विश्लेषण करण्यासाठी आणि सामग्री वैयक्तिकृत करण्यासाठी कुकीज वापरतो. ही साइट वापरून, तुम्ही आमच्या कुकीजच्या वापरास सहमती देता. गोपनीयता धोरण