CMP पॉलिशिंग स्लरी

Veteksemicon ची CMP पॉलिशिंग स्लरी मुख्यतः CMP रासायनिक यांत्रिक पॉलिशिंग स्लरीमध्ये सेमीकंडक्टर सामग्रीच्या प्लॅनराइझिंगसाठी पॉलिशिंग ऍब्रेसिव्ह म्हणून वापरली जाते. त्याचे खालील फायदे आहेत:

अति-उच्च शुद्धता मालिका उत्पादनांसाठी कार्यप्रदर्शन निर्देशक

उच्च-शुद्धता मालिका उत्पादनांसाठी कार्यप्रदर्शन तपशील

पॅरामीटर	युनिट	उच्च-शुद्धता मालिका उत्पादनांसाठी कार्यप्रदर्शन तपशील
		WGXY-1Z	WGXY-2Z	WGXY-3Z	WGXY-4Z	WGXY-5Z	WGXY-6Z	WGXY-7Z
सरासरी सिलिका कण आकार	nm	35±5	४५±५	६५±५	७५±५	८५±५	१००±५	१२०±५
नॅनोपार्टिकल साइज डिस्ट्रिब्युशन (PDI)	1	<0.15	<0.15	<0.15	<0.15	<0.15	<0.15	<0.15
उपाय pH	1	9.5±0.2	९.५±०.२	९.५±०.२	९.५±०.२	९.५±०.२	९.५±०.२	९.५±०.२
ठोस सामग्री	%	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40
देखावा	--	हलका निळा	निळा	पांढरा	ऑफ-व्हाइट	ऑफ-व्हाइट	ऑफ-व्हाइट	ऑफ-व्हाइट
पार्टिकल मॉर्फोलॉजी एक्स	X：S- फेरिकल；B- वक्र；P- शेंगदाणा-आकार；T- बल्बस；C- साखळीसारखी (एकत्रित अवस्था)
आयन स्थिर करणे	M:ऑर्गेनिक अमाइन;K:पोटॅशियम हायड्रॉक्साइड;N:सोडियम हायड्रॉक्साइड;किंवा इतर घटक
धातूची अशुद्धता सामग्री	Z:उच्च-शुद्धता मालिका(H Series≤1ppm;L Series≤10ppm);मानक मालिका (M मालिका ≤300ppm)

सीएमपी पॉलिशिंग स्लरी उत्पादन अनुप्रयोग:

● एकात्मिक सर्किट ILD साहित्य CMP

● एकात्मिक सर्किट पॉली-सी मटेरियल सीएमपी

● सेमीकंडक्टर सिंगल क्रिस्टल सिलिकॉन वेफर मटेरियल CMP

● सेमीकंडक्टर सिलिकॉन कार्बाइड साहित्य CMP

● एकात्मिक सर्किट STI साहित्य CMP

● इंटिग्रेटेड सर्किट मेटल आणि मेटल बॅरियर लेयर मटेरियल सीएमपी