एएलडी प्रक्रिया म्हणजे अणु थर एपिटॅक्सी प्रक्रिया. वेटेक सेमीकंडक्टर आणि एएलडी सिस्टम उत्पादकांनी एसआयसी लेपित एएलडी प्लॅनेटरी संवेदनशील विकसित आणि तयार केले आहेत जे सब्सट्रेटवर एअरफ्लो समान रीतीने वितरित करण्यासाठी एएलडी प्रक्रियेची उच्च आवश्यकता पूर्ण करतात. त्याच वेळी, आमची उच्च शुद्धता सीव्हीडी एसआयसी कोटिंग प्रक्रियेत शुद्धता सुनिश्चित करते. आमच्याशी सहकार्य करण्यासाठी आपले स्वागत आहे.
व्यावसायिक निर्माता म्हणून, वेटेक सेमीकंडक्टर आपल्याला एसआयसी लेपित अणु थर जमा ग्रहांचा संवेदनशील परिचय देऊ इच्छित आहे.
एएलडी प्रक्रिया अणु थर एपिटॅक्सी म्हणून देखील ओळखली जाते. वेटेकसेमॉनने आघाडीच्या एएलडी सिस्टम उत्पादकांशी जवळून कार्य केले आहे ज्यायोगे अत्याधुनिक-लेपित एएलडी ग्रहांच्या संवेदनाक्षमतेचा विकास आणि निर्मिती सुरू आहे. हे नाविन्यपूर्ण संवेदनाक्षम काळजीपूर्वक एएलडी प्रक्रियेच्या कठोर आवश्यकता पूर्ण करण्यासाठी आणि सब्सट्रेटमध्ये एकसमान गॅस प्रवाह वितरण सुनिश्चित करण्यासाठी काळजीपूर्वक डिझाइन केलेले आहेत.
याव्यतिरिक्त, वेटेकसेमॉन उच्च-शुद्धता सीव्हीडी एसआयसी कोटिंग (शुद्धता 99.99995%पर्यंत पोहोचते) वापरून जमा चक्र दरम्यान उच्च शुद्धतेची हमी देते. ही उच्च-शुद्धता एसआयसी कोटिंग केवळ प्रक्रियेची विश्वसनीयता सुधारत नाही तर वेगवेगळ्या अनुप्रयोगांमध्ये एएलडी प्रक्रियेची एकूण कार्यक्षमता आणि पुनरावृत्ती देखील सुधारते.
स्वत: ची विकसित सीव्हीडी सिलिकॉन कार्बाईड डिपॉझिशन फर्नेस (पेटंट टेक्नॉलॉजी) आणि अनेक कोटिंग प्रक्रिया पेटंट्स (जसे की ग्रेडियंट कोटिंग डिझाइन, इंटरफेस कॉम्बिनेशनिंग टेक्नॉलॉजी) वर अवलंबून राहून, आमच्या कारखान्याने खालील प्रगती साध्य केली:
सानुकूलित सेवा: टोयो कार्बन आणि एसजीएल कार्बन सारख्या आयातित ग्रेफाइट सामग्री निर्दिष्ट करण्यासाठी ग्राहकांना समर्थन द्या.
गुणवत्ता प्रमाणपत्र: उत्पादनाने अर्ध मानक चाचणी उत्तीर्ण केली आहे आणि कण शेडिंग दर <0.01%आहे, 7nm च्या खाली प्रगत प्रक्रियेच्या आवश्यकता पूर्ण करीत आहे.
● उच्च-तापमान प्रतिरोधक: हे उत्कृष्ट थर्मल शॉक प्रतिरोध आणि क्रॅकिंग किंवा सोलून जाण्याचा धोका नसलेल्या 1200 ℃ च्या वर उच्च-तापमान वातावरणात बर्याच काळासाठी कार्य करू शकते.
कोटिंगचे थर्मल विस्तार गुणांक ग्रेफाइट सब्सट्रेटच्या तुलनेत चांगले जुळते, एकसमान उष्णता फील्ड वितरण सुनिश्चित करते आणि सिलिकॉन वेफर विकृती कमी करते.
● पृष्ठभाग गुळगुळीत: परिपूर्ण 3 डी कन्फॉर्मॅलिटी आणि 100% चरण कव्हरेज सब्सट्रेट वक्रतेचे अनुसरण करणारे गुळगुळीत कोटिंग्ज सुनिश्चित करते.
● गंज आणि प्लाझ्मा इरोशनला प्रतिरोधक: एसआयसी कोटिंग्ज हलोजन वायूंच्या धूप (जसे की सीएलए, एफ₂) आणि प्लाझ्मा, एचिंग, सीव्हीडी आणि इतर कठोर प्रक्रियेच्या वातावरणासाठी योग्य आहेत.
● विस्तृत अर्ज: संवेदनशील सब्सट्रेट्ससाठी योग्य, वेफर्सपासून पावडरपर्यंत विविध वस्तूंवर कोट करण्यायोग्य.
● सानुकूलित सामग्री गुणधर्म: ऑक्साईड्स, नायट्राइड्स, धातू इत्यादींसाठी भौतिक गुणधर्मांचे सुलभ सानुकूलन इ.
● वाइड प्रक्रिया विंडो: तापमान किंवा पूर्ववर्ती भिन्नतेबद्दल असंवेदनशीलता, परिपूर्ण कोटिंग जाडी एकसारखेपणासह बॅच उत्पादनास अनुकूल.
अनुप्रयोग परिदृश्य:
1. सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग उपकरणे
एपिटॅक्सी: एमओसीव्हीडी रिएक्शन पोकळीचा कोर कॅरियर म्हणून, हे वेफरची एकसमान गरम करणे सुनिश्चित करते आणि एपिटॅक्सी लेयरची गुणवत्ता सुधारते.
एचिंग आणि जमा प्रक्रियाः कोरड्या एचिंग आणि अणु थर जमा (एएलडी) उपकरणांमध्ये वापरलेले इलेक्ट्रोड घटक, जे उच्च-वारंवारता प्लाझ्मा बॉम्बार्डमेंट 1016 सहन करतात.
2. फोटोव्होल्टिक उद्योग
पॉलीसिलिकॉन इनगॉट फर्नेस: थर्मल फील्ड सपोर्ट घटक म्हणून, अशुद्धींचा परिचय कमी करा, सिलिकॉन इनगॉटची शुद्धता सुधारित करा आणि सौर पेशी कार्यक्षमतेस मदत करा.
एक अग्रगण्य चिनी एएलडी प्लॅनेटरी सासेप्टर निर्माता आणि पुरवठादार म्हणून, वेटेकसेमॉन आपल्याला प्रगत पातळ फिल्म डिपॉझिशन टेक्नॉलॉजी सोल्यूशन्स प्रदान करण्यास वचनबद्ध आहे. आपल्या पुढील चौकशीचे स्वागत आहे.
सीव्हीडी एसआयसी कोटिंगचे मूलभूत भौतिक गुणधर्म:
सीव्हीडी एसआयसी कोटिंगचे मूलभूत भौतिक गुणधर्म
मालमत्ता
ठराविक मूल्य
क्रिस्टल स्ट्रक्चर
एफसीसी β फेज पॉलीक्रिस्टलिन, प्रामुख्याने (111) देणारं
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
आम्ही तुम्हाला एक चांगला ब्राउझिंग अनुभव देण्यासाठी, साइट रहदारीचे विश्लेषण करण्यासाठी आणि सामग्री वैयक्तिकृत करण्यासाठी कुकीज वापरतो. ही साइट वापरून, तुम्ही आमच्या कुकीजच्या वापरास सहमती देता. गोपनीयता धोरण