बातम्या

हा लेख वेटेक सेमीकंडक्टरच्या सच्छिद्र ग्रेफाइटच्या भौतिक पॅरामीटर्स आणि उत्पादन वैशिष्ट्यांचे वर्णन करतो, तसेच सेमीकंडक्टर प्रक्रियेतील त्याचे विशिष्ट अनुप्रयोग.

हा लेख एकाधिक दृष्टीकोनातून टँटलम कार्बाईड कोटिंग आणि सिलिकॉन कार्बाईड कोटिंगच्या उत्पादनांची वैशिष्ट्ये आणि अनुप्रयोग परिदृश्यांचे विश्लेषण करतो.

चिप मॅन्युफॅक्चरिंगमध्ये पातळ फिल्म जमा करणे आवश्यक आहे, सीव्हीडी, एएलडी किंवा पीव्हीडीद्वारे 1 मायक्रॉन जाड चित्रपट जमा करून सूक्ष्म उपकरणे तयार करतात. या प्रक्रिया पर्यायी प्रवाहकीय आणि इन्सुलेट चित्रपटांद्वारे सेमीकंडक्टर घटक तयार करतात.

सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग प्रक्रियेमध्ये आठ चरणांचा समावेश आहे: वेफर प्रोसेसिंग, ऑक्सिडेशन, लिथोग्राफी, एचिंग, पातळ फिल्म जमा, इंटरकनेक्शन, चाचणी आणि पॅकेजिंग. वाळूच्या सिलिकॉनवर वेफर्समध्ये प्रक्रिया केली जाते, ऑक्सिडाइज्ड, नमुनेदार आणि उच्च-परिशुद्धता सर्किट्ससाठी कोरले जाते.

या लेखाचे वर्णन केले आहे की एलईडी सब्सट्रेट हा नीलमचा सर्वात मोठा अनुप्रयोग आहे, तसेच नीलम क्रिस्टल्स तयार करण्याच्या मुख्य पद्धती आहेत: कोझोक्रल्स्की पद्धतीने वाढणारी नीलम क्रिस्टल्स, किरोपॉलोस पद्धतीने वाढणारी नीलम क्रिस्टल्स, मार्गदर्शित मूस पद्धतीने वाढणारी नीलम क्रिस्टल्स, आणि वाढत्या सफाईर क्रिस्टल्स, आणि वाढत्या सफाईर क्रिस्टल्सने उष्णता वेश्या पद्धतीने वाढत आहे.

लेखात एकल-क्रिस्टल फर्नेसमधील तापमान ग्रेडियंट स्पष्ट केले आहे. हे क्रिस्टल ग्रोथ दरम्यान स्थिर आणि डायनॅमिक उष्णता क्षेत्र, सॉलिड-लिक्विड इंटरफेस आणि सॉलिडिफिकेशनमध्ये तापमान ग्रेडियंटची भूमिका व्यापते.