एलपीई पीई 2061 साठी एसआयसी कोटेड समर्थन

एपिटॅक्सियल ग्रोथ प्रक्रियेदरम्यान एपिटॅक्सियल वेफर्स (किंवा सब्सट्रेट्स) चे समर्थन आणि धरून ठेवण्यासाठी बॅरेल प्रकारातील संवेदनाक्षमतेच्या संयोगाने वापरल्या जाणार्‍या सिलिकॉन एपिटॅक्सी उपकरणांमध्ये एलपीई पीई 2061 एससाठी वेटेक सेमीकंडक्टर एसआयसी लेपित समर्थन.

तळाशी प्लेट प्रामुख्याने बॅरेल एपिटॅक्सियल फर्नेससह वापरली जाते, बॅरेल एपिटॅक्सियल फर्नेसमध्ये एक मोठा प्रतिक्रिया चेंबर असतो आणि फ्लॅट एपिटॅक्सियल संवेदनशीलतेपेक्षा जास्त उत्पादन कार्यक्षमता असते. समर्थनामध्ये गोल भोक डिझाइन आहे आणि प्रामुख्याने अणुभट्टीच्या आत एक्झॉस्ट आउटलेटसाठी वापरले जाते.

एलपीई पीई 2061 एस सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग आणि प्रगत मटेरियल प्रक्रियेसाठी डिझाइन केलेले एक सिलिकॉन कार्बाईड (एसआयसी) लेपित ग्रेफाइट सपोर्ट बेस आहे, जे उच्च तापमान, उच्च अचूक प्रक्रिया वातावरणासाठी योग्य आहे (जसे की लिक्विड फेज स्ट्रिपिंग टेक्नॉलॉजी एलपीई, मेटल-ऑर्गेनिक केमिकल वाफ डिपॉझिट एमओसीव्हीडी इ.). त्याच्या मूळ डिझाइनमध्ये अत्यंत परिस्थितीत स्थिरता, गंज प्रतिरोध आणि थर्मल एकरूपता सुनिश्चित करण्यासाठी दाट एसआयसी कोटिंगसह उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट सब्सट्रेटचे दुहेरी फायदे एकत्र केले जातात.

मुख्य वैशिष्ट्य

● उच्च तापमान प्रतिकार:

एसआयसी कोटिंग 1200 डिग्री सेल्सिअसपेक्षा जास्त तापमानाचा प्रतिकार करू शकते आणि तापमानातील चढ -उतारांमुळे होणार्‍या तणाव क्रॅकिंग टाळण्यासाठी थर्मल एक्सपेंशन गुणांक ग्रेफाइट सब्सट्रेटशी अत्यधिक जुळला आहे.

●  उत्कृष्ट थर्मल एकरूपता:

रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) तंत्रज्ञानाद्वारे तयार केलेले दाट एसआयसी कोटिंग बेसच्या पृष्ठभागावर एकसमान उष्णता वितरण सुनिश्चित करते आणि एपिटेक्सियल फिल्मची एकरूपता आणि शुद्धता सुधारते.

●  ऑक्सिडेशन आणि गंज प्रतिकार:

एसआयसी कोटिंग पूर्णपणे ग्रॅफाइट सब्सट्रेट व्यापते, ऑक्सिजन आणि संक्षारक वायू (जसे की एनएच ₃, एच ₂ इ.) अवरोधित करते, बेसचे जीवन लक्षणीय प्रमाणात वाढवते.

●  उच्च यांत्रिक शक्ती:

लेपमध्ये ग्रेफाइट मॅट्रिक्ससह उच्च बंधन शक्ती असते आणि एकाधिक उच्च-तापमान आणि कमी-तापमान चक्रांचा सामना करू शकतो, ज्यामुळे थर्मल शॉकमुळे होणार्‍या नुकसानीचा धोका कमी होतो.

●  अल्ट्रा-उच्च शुद्धता:

वेफर्स किंवा एपिटॅक्सियल सामग्री दूषित करणे टाळण्यासाठी सेमीकंडक्टर प्रक्रियेच्या (मेटल अशुद्धता सामग्री -1 पीपीएम) कठोर अशुद्धता सामग्री आवश्यकता पूर्ण करा.

तांत्रिक प्रक्रिया

●  कोटिंग तयारी: रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) किंवा उच्च तापमान एम्बेड करण्याची पद्धत, एकसमान आणि दाट-एसआयसी (3 सी-एसआयसी) कोटिंग उच्च बंधन शक्ती आणि रासायनिक स्थिरतेसह ग्रेफाइटच्या पृष्ठभागावर तयार केले जाते.

●  सुस्पष्टता मशीनिंग: बेस सीएनसी मशीन टूल्सद्वारे बारीक मशीन केला जातो आणि पृष्ठभागाची उग्रता 0.4μm पेक्षा कमी आहे, जी उच्च-परिशुद्धता वेफर बेअरिंग आवश्यकतांसाठी योग्य आहे.

अनुप्रयोग फील्ड

●  MOCVD उपकरणे: गॅन, एसआयसी आणि इतर कंपाऊंड सेमीकंडक्टर एपिटॅक्सियल ग्रोथ, समर्थन आणि एकसमान हीटिंग सब्सट्रेटसाठी.

●  सिलिकॉन/एसआयसी एपिटॅक्सी: सिलिकॉन किंवा एसआयसी सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमध्ये एपिटॅक्सी थरांची उच्च प्रतीची जमा सुनिश्चित करते.

●  लिक्विड फेज स्ट्रिपिंग (एलपीई) प्रक्रिया: ग्राफीन आणि ट्रान्झिशन मेटल चाल्कोजेनाइड्स सारख्या द्विमितीय सामग्रीसाठी स्थिर समर्थन प्लॅटफॉर्म प्रदान करण्यासाठी अल्ट्रासोनिक सहाय्यक मटेरियल स्ट्रिपिंग तंत्रज्ञान अ‍ॅडॉप्ट्स.

स्पर्धात्मक फायदा

●  आंतरराष्ट्रीय मानक गुणवत्ता: मुख्य प्रवाहातील सेमीकंडक्टर उपकरणांसाठी योग्य कामगिरी बेंचमार्किंग टोयोटानसो, एसजीएलकार्बन आणि इतर आंतरराष्ट्रीय आघाडीच्या उत्पादक.

●  सानुकूलित सेवा: वेगवेगळ्या पोकळींच्या डिझाइन गरजा पूर्ण करण्यासाठी डिस्क शेप, बॅरेल शेप आणि इतर बेस शेप सानुकूलन समर्थन.

●  स्थानिकीकरण फायदा: पुरवठा चक्र कमी करा, वेगवान तांत्रिक प्रतिसाद द्या, पुरवठा साखळी जोखीम कमी करा.

गुणवत्ता आश्वासन

●  कठोर चाचणी: घनता, जाडी (विशिष्ट मूल्य 100 ± 20μm) आणि कोटिंगची रचना शुद्धता एसईएम, एक्सआरडी आणि इतर विश्लेषणात्मक माध्यमांद्वारे सत्यापित केली गेली.

●  विश्वसनीयता चाचणी: दीर्घकालीन स्थिरता सुनिश्चित करण्यासाठी उच्च तापमान चक्र (1000 डिग्री सेल्सियस → खोलीचे तापमान, ≥100 वेळा) आणि गंज प्रतिरोध चाचणीसाठी वास्तविक प्रक्रिया वातावरणाचे अनुकरण करा.

●  लागू उद्योग: सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग, एलईडी एपिटॅक्सी, आरएफ डिव्हाइस उत्पादन इ.

सीव्हीडी एसआयसी फिल्मची एसईएम डेटा आणि रचना ●