एचिंगसाठी एसआयसी लेपित वेफर कॅरियर

एचिंग प्रक्रियेसाठी एसआयसी कोटेड वेफर कॅरियरचा कोर अनुप्रयोग

1. एलईडी मॅन्युफॅक्चरिंगमध्ये गॅन फिल्म ग्रोथ आणि एचिंग

एसआयसी कोटेड कॅरियर्स (जसे की पीएसएस एचिंग कॅरियर) एलईडी उत्पादनात नीलम सब्सट्रेट्स (नमुना नीलमणी सब्सट्रेट, पीएसएस) चे समर्थन करण्यासाठी आणि उच्च तापमानात गॅलियम नायट्राइड (जीएएन) चित्रपटांचे रासायनिक वाष्प जमा (एमओसीव्हीडी) सादर करण्यासाठी वापरले जातात. त्यानंतर प्रकाश काढण्याच्या कार्यक्षमतेत सुधारणा करण्यासाठी पृष्ठभाग मायक्रोस्ट्रक्चर तयार करण्यासाठी वाहक ओले एचिंग प्रक्रियेद्वारे काढले जाते.

मुख्य भूमिका: वेफर कॅरियरला प्लाझ्मा एचिंग वातावरणात 1600 डिग्री सेल्सियस पर्यंत तापमान आणि रासायनिक गंज सहन करणे आवश्यक आहे. उच्च शुद्धता (99.99995%) आणि एसआयसी कोटिंगची घनता धातूच्या दूषिततेस प्रतिबंध करते आणि गॅन फिल्मची एकसमानता सुनिश्चित करते.

2. सेमीकंडक्टर प्लाझ्मा/ड्राय एचिंग प्रक्रिया

मध्येआयसीपी (इंडक्टिव्हली युग्मित प्लाझ्मा) एचिंग, एसआयसी लेपित वाहक ऑप्टिमाइझ्ड एअरफ्लो डिझाइनद्वारे (जसे की लॅमिनेर फ्लो मोड) एकस उष्णता वितरण प्राप्त करतात, अशुद्धता प्रसार टाळतात आणि कोंडीची अचूकता सुधारतात. उदाहरणार्थ, वेटेकसेमॉनचे एसआयसी लेपित आयसीपी एचिंग कॅरियर 2700 डिग्री सेल्सियस तापमानाचे तापमान प्रतिकार करू शकते आणि उच्च-उर्जा प्लाझ्मा वातावरणासाठी योग्य आहे.

3. सौर सेल आणि पॉवर डिव्हाइस मॅन्युफॅक्चरिंग

एसआयसी कॅरियर्स फोटोव्होल्टिक फील्डमध्ये उच्च-तापमान प्रसार आणि सिलिकॉन वेफर्सच्या एचिंगमध्ये चांगले काम करतात. त्यांचे कमी थर्मल विस्तार गुणांक (4.5 × 10⁻⁶/के) थर्मल तणावामुळे होणारे विकृती कमी करते आणि सेवा जीवन वाढवते.

भौतिक गुणधर्म आणि एचिंगसाठी एसआयसी लेपित वेफर कॅरियरचे फायदे

1. अत्यंत वातावरणात सहनशीलता:

उच्च तापमान स्थिरता:सीव्हीडी एसआयसी कोटिंगपारंपारिक क्वार्ट्ज किंवा ग्रेफाइट वाहकांपेक्षा जास्त काळ 1600 डिग्री सेल्सियस एअर किंवा 2200 डिग्री सेल्सियस व्हॅक्यूम वातावरणात कार्य करू शकते.

गंज प्रतिरोध: एसआयसीला ids सिडस्, अल्कलिस, लवण आणि सेंद्रिय सॉल्व्हेंट्सचा उत्कृष्ट प्रतिकार आहे आणि वारंवार रासायनिक साफसफाईसह सेमीकंडक्टर उत्पादन लाइनसाठी योग्य आहे.

2. थर्मल आणि यांत्रिक गुणधर्म:

उच्च औष्णिक चालकता (300 डब्ल्यू/एमके): वेगवान उष्णता अपव्यय थर्मल ग्रेडियंट्स कमी करते, वेफर तापमान एकसारखेपणा सुनिश्चित करते आणि चित्रपटाची जाडी विचलन टाळते.

उच्च यांत्रिक सामर्थ्य: लवचिक शक्ती 415 एमपीए (खोलीचे तापमान) पर्यंत पोहोचते आणि तरीही ते उच्च तापमानात 90% पेक्षा जास्त सामर्थ्य राखते, वाहक क्रॅकिंग किंवा डेलेमिनेशन टाळणे.

पृष्ठभाग समाप्त: एसएसआयसी (प्रेशर सिन्टर सिलिकॉन कार्बाईड) मध्ये पृष्ठभाग कमीपणा (<0.1μm) असतो, ज्यामुळे कण दूषितपणा कमी होतो आणि वेफर उत्पन्न सुधारते.

3. सामग्री जुळणारे ऑप्टिमायझेशन:

ग्रेफाइट सब्सट्रेट आणि एसआयसी कोटिंग दरम्यान कमी थर्मल विस्तार फरक: कोटिंग प्रक्रिया समायोजित करून (जसे की ग्रेडियंट जमा), इंटरफेसचा ताण कमी होतो आणि कोटिंगला सोलून प्रतिबंधित केले जाते.

उच्च शुद्धता आणि कमी दोष: सीव्हीडी प्रक्रिया कोटिंग शुद्धता> 99.9999%सुनिश्चित करते, संवेदनशील प्रक्रियेचे मेटल आयन दूषित करणे (जसे की एसआयसी पॉवर डिव्हाइस मॅन्युफॅक्चरिंग).

मगसी सीव्हीडी एसआयसी कोटिंगचे भौतिक गुणधर्म

सीव्हीडी एसआयसी कोटिंग फिल्म क्रिस्टल स्ट्रक्चर

पशुवैद्यकीय शॉप्स