थ्री-पिटल ग्रेफाइट क्रूसिबल

सीझेड मेथडद्वारे मोनोक्रिस्टलिन सिलिकॉनच्या वाढीच्या प्रक्रियेसाठी डिझाइन केलेले वेटेक सेमीकंडक्टरचे थ्री-पिटल ग्रेफाइट क्रूसिबल, थ्री-पिटल स्ट्रक्चर ग्रेफाइट क्रूसिबल आयसोस्टॅटिक उच्च शुद्धता ग्रेफाइट मटेरियलने बनविले आहे. नाविन्यपूर्ण तीन-पाळीव प्राण्यांच्या संरचनेद्वारे, पारंपारिक समाकलित क्रूसिबल विच्छेदन अडचणी, औष्णिक ताण एकाग्रता आणि इतर उद्योग वेदना बिंदूंचे प्रभावीपणे निराकरण करू शकते आणि फोटोव्होल्टिक सिलिकॉन वेफर्स, सेमीकंडक्टर वेफर्स आणि इतर उच्च-एंड मॅन्युफॅक्चरिंग फील्डमध्ये मोठ्या प्रमाणात वापरले जाते.

कोर प्रक्रिया हायलाइट्स

1. अल्ट्रा-प्रीसीशन ग्रेफाइट प्रोसेसिंग टेक्नॉलॉजी

मटेरियल शुद्धता: सिलिकॉन मेल्टिंग प्रक्रियेमध्ये शून्य प्रदूषण सुनिश्चित करण्यासाठी एश सामग्री <5 पीपीएमसह आयसोस्टॅटिक दाबलेल्या ग्रेफाइट सब्सट्रेटचा वापर

स्ट्रक्चरल बळकटीकरण: 2200 at वर ग्राफिट केल्यानंतर, वाकणे सामर्थ्य ≥45 एमपीए आहे आणि थर्मल विस्ताराचे गुणांक ≤4.6 × 10⁻⁶/℃ आहे

पृष्ठभागावरील उपचारः ऑक्सिडेशन प्रतिरोध सुधारण्यासाठी 10-15μm पायरोलाइटिक कार्बन कोटिंग सीव्हीडी प्रक्रियेद्वारे जमा केले जाते (वजन कमी <1.5%//100 एच@१00००).

2. नाविन्यपूर्ण तीन-पाळीव रचना डिझाइन

मॉड्यूलर असेंब्ली: 120 ° सुसज्ज तीन-लोब रचना, स्थापना आणि विघटन कार्यक्षमता 300% वाढली

तणाव सोडण्याची रचना: स्प्लिट स्ट्रक्चर थर्मल विस्ताराचा ताण प्रभावीपणे पसरवते आणि सर्व्हिस लाइफला 200 हून अधिक चक्रांपर्यंत वाढवते

प्रेसिजन फिट: वाल्व्हमधील अंतर <0.1 मिमी आहे आणि उच्च तापमान सिरेमिक चिकट सिलिकॉन वितळण्याच्या प्रक्रियेत शून्य गळती सुनिश्चित करते

3. सानुकूलित प्रक्रिया सेवा

समर्थन φ16 "-φ40" पूर्ण-आकाराचे सानुकूलन, भिंत जाडी सहिष्णुता नियंत्रण ± 0.5 मिमी

थर्मल फील्ड वितरण ऑप्टिमाइझ करण्यासाठी ग्रेडियंट डेन्सिटी स्ट्रक्चर 1.83 ग्रॅम/सेमी³ निवडले जाऊ शकते

बोरॉन नायट्राइड कंपोझिट कोटिंग आणि रेनियम मेटल एज स्ट्रेंसींग सारख्या मूल्य-वर्धित प्रक्रिया प्रदान करा

ठराविक अनुप्रयोग परिदृश्य

फोटोव्होल्टिक उद्योग

मोनोक्रिस्टलिन सिलिकॉन रॉड सतत रेखांकन: जी 12 मोठ्या आकारात सिलिकॉन वेफर उत्पादनासाठी योग्य, समर्थन ≥500 किलो लोडिंग क्षमता

एन-प्रकार टॉपकॉन बॅटरी: अल्ट्रा-लो अशुद्धता स्थलांतर अल्पसंख्याक जीवनाची हमी> 2 एम

थर्मल फील्ड अपग्रेडिंग: मेनस्ट्रीम सिंगल क्रिस्टल फर्नेस मॉडेल्स (पीव्हीआय, फेरोटीक इ.) सह सुसंगत

सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग

8-12 इंच सेमीकंडक्टर-ग्रेड मोनोक्रिस्टलिन सिलिकॉन वाढ: अर्ध मानक वर्ग -10 स्वच्छता आवश्यकता पूर्ण करा

विशेष डोप्ड क्रिस्टल्स: बोरॉन/फॉस्फरस वितरण एकसारखेपणाचे अचूक नियंत्रण

तृतीय पिढी सेमीकंडक्टर: सुसंगत एसआयसी सिंगल क्रिस्टल तयारी प्रक्रिया

वैज्ञानिक संशोधन क्षेत्र

स्पेस सौर पेशींसाठी अल्ट्रा-पातळ सिलिकॉन वेफर्सचे संशोधन आणि विकास

नवीन क्रिस्टल मटेरियलची वाढ चाचणी (जर्मेनियम, गॅलियम आर्सेनाइड)

पॅरामीटर संशोधन मर्यादित करा (3000 ℃ अल्ट्रा-उच्च तापमान वितळण्याचे प्रयोग)

गुणवत्ता आश्वासन प्रणाली

आयएसओ 9001/14001 ड्युअल सिस्टम प्रमाणपत्र

ग्राहकांना मटेरियल टेस्ट अहवाल द्या (एक्सआरडी रचना विश्लेषण, एसईएम मायक्रोस्ट्रक्चर)

संपूर्ण प्रक्रिया ट्रेसिबिलिटी सिस्टम (लेसर मार्किंग + ब्लॉकचेन स्टोरेज)