सिलिकॉन कार्बाईड शॉवर हेडमध्ये उत्कृष्ट तापमान सहिष्णुता, रासायनिक स्थिरता, औष्णिक चालकता आणि गॅस वितरण चांगले कामगिरी आहे, जे एकसमान गॅस वितरण प्राप्त करू शकते आणि चित्रपटाची गुणवत्ता सुधारू शकते. म्हणूनच, हे सहसा रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) किंवा भौतिक वाष्प जमा (पीव्हीडी) प्रक्रियेसारख्या उच्च तापमान प्रक्रियेमध्ये वापरले जाते. आमच्यासाठी आपल्या पुढील सल्ल्याचे स्वागत करा, वेटेक सेमीकंडक्टर.
वेटेक सेमीकंडक्टर सिलिकॉन कार्बाईड शॉवर हेड प्रामुख्याने एसआयसीचे बनलेले आहे. सेमीकंडक्टर प्रोसेसिंगमध्ये, सिलिकॉन कार्बाईड शॉवर हेडचे मुख्य कार्य म्हणजे एकसमान चित्रपटाची निर्मिती सुनिश्चित करण्यासाठी रिएक्शन गॅस समान रीतीने वितरित करणेरासायनिक वाष्प साठा (सीव्हीडी)किंवाभौतिक वाष्प साठा (पीव्हीडी)प्रक्रिया. उच्च थर्मल चालकता आणि रासायनिक स्थिरता यासारख्या एसआयसीच्या उत्कृष्ट गुणधर्मांमुळे, एसआयसी शॉवर हेड उच्च तापमानात कार्यक्षमतेने कार्य करू शकते, दरम्यान गॅसच्या प्रवाहाची असमानता कमी करतेठेव प्रक्रिया, आणि अशा प्रकारे फिल्म लेयरची गुणवत्ता सुधारित करा.
सिलिकॉन कार्बाईड शॉवर हेड समान छिद्रांसह एकाधिक नोजलद्वारे प्रतिक्रिया गॅस समान रीतीने वितरित करू शकते, एकसमान गॅस प्रवाह सुनिश्चित करू शकते, स्थानिक एकाग्रता खूप जास्त किंवा खूपच कमी आहे आणि अशा प्रकारे चित्रपटाची गुणवत्ता सुधारू शकते. च्या उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिकार आणि रासायनिक स्थिरतेसह एकत्रितसीव्हीडी sic, दरम्यान कोणतेही कण किंवा दूषित पदार्थ सोडले जात नाहीतफिल्म जमा प्रक्रिया, जे चित्रपटाच्या सादरीकरणाची शुद्धता राखण्यासाठी गंभीर आहे.
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
आम्ही तुम्हाला एक चांगला ब्राउझिंग अनुभव देण्यासाठी, साइट रहदारीचे विश्लेषण करण्यासाठी आणि सामग्री वैयक्तिकृत करण्यासाठी कुकीज वापरतो. ही साइट वापरून, तुम्ही आमच्या कुकीजच्या वापरास सहमती देता. गोपनीयता धोरण