सच्छिद्र सिलिकॉन कार्बाईड (एसआयसी) सिरेमिक प्लेट्स: सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमधील उच्च-कार्यक्षमता सामग्री

Ⅰ. सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक प्लेट म्हणजे काय?

सच्छिद्र सिलिकॉन कार्बाईड सिरेमिक प्लेट ही एक सच्छिद्र रचना सिरेमिक मटेरियल आहे जी सिलिकॉन कार्बाईड (एसआयसी) ने विशेष प्रक्रियेद्वारे (जसे फोमिंग, 3 डी प्रिंटिंग किंवा छिद्रयुक्त एजंट्स जोडणे). त्याच्या मूळ वैशिष्ट्यांमध्ये हे समाविष्ट आहे:

● कंट्रोल करण्यायोग्य पोर्सिटी: वेगवेगळ्या अनुप्रयोग परिस्थितींच्या गरजा भागविण्यासाठी 30% -70% समायोज्य.

● एकसमान छिद्र आकार वितरण: गॅस/लिक्विड ट्रान्समिशन स्थिरता सुनिश्चित करा.

● लाइटवेट डिझाइन: उपकरणे उर्जा वापर कमी करा आणि ऑपरेटिंग कार्यक्षमता सुधारित करा.

Ⅱ.फाइव्ह कोअर भौतिक गुणधर्म आणि सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक प्लेट्सचे वापरकर्ता मूल्य

1. उच्च तापमान प्रतिकार आणि थर्मल व्यवस्थापन (मुख्यत: उपकरणांच्या थर्मल अपयशाची समस्या सोडविण्यासाठी)

● अत्यंत तापमान प्रतिकार: सतत कार्यरत तापमान 1600 डिग्री सेल्सियस पर्यंत पोहोचते (एल्युमिना सिरेमिक्सपेक्षा 30% जास्त).

● उच्च कार्यक्षमता थर्मल चालकता: थर्मल चालकता गुणांक 120 डब्ल्यू/(एम · के) आहे, वेगवान उष्णता अपव्यय संवेदनशील घटकांचे संरक्षण करते.

● अल्ट्रा-लो थर्मल विस्तार: थर्मल एक्सपेंशन गुणांक केवळ × .० × १०⁻⁶/डिग्री सेल्सियस आहे, अत्यंत उच्च तापमानात ऑपरेशनसाठी योग्य, उच्च तापमान विकृती प्रभावीपणे टाळत आहे.

2. रासायनिक स्थिरता (संक्षारक वातावरणात देखभाल खर्च कमी करणे)

● मजबूत ids सिडस् आणि अल्कलिस प्रतिरोधक: एचएफ आणि एचएसओ सारख्या संक्षारक माध्यमांना प्रतिकार करू शकता

● प्लाझ्मा इरोशनला प्रतिरोधक: कोरड्या एचिंग उपकरणांमधील जीवनात 3 पट वाढ झाली आहे

3. यांत्रिक सामर्थ्य (उपकरणे जीवन वाढवित आहे)

● उच्च कडकपणा: एमओएचएस कठोरता 9.2 इतकी उच्च आहे आणि स्टेनलेस स्टीलपेक्षा परिधान प्रतिरोध अधिक चांगले आहे

● वाकणे सामर्थ्य: 300-400 एमपीए, वॉर्पिंगशिवाय वेफर्सचे समर्थन

4. सच्छिद्र रचनांचे कार्य (प्रक्रिया उत्पन्न सुधारणे)

● एकसमान गॅस वितरण: सीव्हीडी प्रक्रिया फिल्म एकरूपता 98%पर्यंत वाढली आहे.

● तंतोतंत शोषण नियंत्रण: इलेक्ट्रोस्टॅटिक चक (ईएससी) ची स्थिती अचूकता ± 0.01 मिमी आहे.

5. स्वच्छता हमी (सेमीकंडक्टर-ग्रेड मानकांच्या अनुपालनात)

● शून्य धातूचा दूषितपणा: शुद्धता> 99.99%, वेफर दूषितपणा टाळणे

● स्वत: ची साफसफाईची वैशिष्ट्ये: मायक्रोपोरस स्ट्रक्चर कण जमा कमी करते

Iii. सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमध्ये सच्छिद्र एसआयसी प्लेट्सचे चार की अनुप्रयोग

परिस्थिती 1: उच्च-तापमान प्रक्रिया उपकरणे (प्रसार फर्नेस/ne नीलिंग फर्नेस)

● वापरकर्ता वेदना बिंदू: पारंपारिक साहित्य सहज विकृत केले जाते, परिणामी वेफर स्क्रॅपिंग होते

● समाधान: कॅरियर प्लेट म्हणून, ते 1200 डिग्री सेल्सियस अंतर्गत वातावरणात कार्य करते

● डेटा तुलना: थर्मल विकृतीकरण एल्युमिनापेक्षा 80% कमी आहे

परिस्थिती 2: रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी)

● वापरकर्ता वेदना बिंदू: असमान गॅस वितरण चित्रपटाच्या गुणवत्तेवर परिणाम करते

● समाधान: सच्छिद्र रचना प्रतिक्रिया गॅस प्रसार एकसारखेपणा 95% पर्यंत पोहोचते

● उद्योग प्रकरण: 3 डी नंद फ्लॅश मेमरी पातळ फिल्म जमा करण्यासाठी लागू

परिस्थिती 3: कोरडे एचिंग उपकरणे

● वापरकर्ता वेदना बिंदू: प्लाझ्मा इरोशन शोघटक घटक जीवन

● समाधान: प्लाझ्मा-विरोधी कामगिरी देखभाल चक्र 12 महिन्यांपर्यंत वाढवते

● खर्च-प्रभावीपणा: उपकरणे डाउनटाइम 40% कमी झाली आहे

परिस्थिती 4: वेफर क्लीनिंग सिस्टम

● वापरकर्ता वेदना बिंदू: acid सिड आणि अल्कली गंजमुळे भागांची वारंवार बदली

● समाधान: एचएफ acid सिड प्रतिरोध सर्व्हिस लाइफ 5 वर्षांहून अधिक पोहोचतो

● सत्यापन डेटा: सामर्थ्य धारणा दर> 1000 क्लीनिंग सायकल नंतर 90%

Iv. पारंपारिक सामग्रीच्या तुलनेत 3 प्रमुख निवड फायदे

उद्योग वापरकर्त्यांसाठी व्ही. एफएक्यू

Q1: सच्छिद्र एसआयसी सिरेमिक प्लेट गॅलियम नायट्राइड (जीएएन) डिव्हाइस उत्पादनासाठी योग्य आहे का?

उत्तर: होय, त्याचे उच्च तापमान प्रतिकार आणि उच्च थर्मल चालकता विशेषतः जीएएन एपिटॅक्सियल ग्रोथ प्रक्रियेसाठी योग्य आहे आणि 5 जी बेस स्टेशन चिप मॅन्युफॅक्चरिंगवर लागू केली गेली आहे.

Q2: पोर्सिटी पॅरामीटर कसा निवडायचा?

उत्तर: अनुप्रयोग परिदृश्यानुसार निवडा:

● गॅस वितरित कराtion: 40% -50% ओपन पोर्सिटीची शिफारस केली जाते

● व्हॅक्यूम शोषण: 60% -70% उच्च पोर्सिटीची शिफारस केली जाते

प्रश्न 3: इतर सिलिकॉन कार्बाईड सिरेमिकमध्ये काय फरक आहे?

उत्तर: दाट च्या तुलनेतSic creamics, सच्छिद्र रचनांचे खालील फायदे आहेत:

● 50% वजन कमी

विशिष्ट पृष्ठभागाच्या क्षेत्रात 20 वेळा वाढ

Ther थर्मल तणावात 30% घट