उत्पादने

Vetek CVD TaC कोटेड ससेप्टर हे विशेषत: उच्च-कार्यक्षमता MOCVD एपिटॅक्सियल वाढीसाठी विकसित केलेले एक अचूक उपाय आहे. हे 1600°C च्या अत्यंत उच्च-तापमान वातावरणात उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता आणि रासायनिक जडत्व दर्शवते. VETEK च्या कठोर CVD डिपॉझिशन प्रक्रियेवर विसंबून, आम्ही वेफरच्या वाढीची एकसमानता सुधारण्यासाठी, मुख्य घटकांचे सेवा आयुष्य वाढवण्यासाठी आणि तुमच्या सेमीकंडक्टर उत्पादनाच्या प्रत्येक बॅचसाठी स्थिर आणि विश्वासार्ह कामगिरीची हमी देण्यासाठी वचनबद्ध आहोत.

Veteksemicon सॉलिड सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) फोकसिंग रिंग हा प्रगत सेमीकंडक्टर एपिटॅक्सी आणि प्लाझ्मा एचिंग प्रक्रियेमध्ये वापरला जाणारा एक महत्त्वपूर्ण उपभोग्य घटक आहे, जेथे प्लाझ्मा वितरण, थर्मल एकरूपता आणि वेफर एज इफेक्ट्सचे अचूक नियंत्रण आवश्यक आहे. उच्च-शुद्धतेच्या सॉलिड सिलिकॉन कार्बाइडपासून निर्मित, ही फोकसिंग रिंग अपवादात्मक प्लाझ्मा इरोशन प्रतिरोध, उच्च-तापमान स्थिरता आणि रासायनिक जडत्व दर्शवते, आक्रमक प्रक्रिया परिस्थितीत विश्वसनीय कार्यप्रदर्शन सक्षम करते. आम्ही तुमच्या चौकशीची वाट पाहत आहोत.

सिलिकॉन कार्बाइड क्रिस्टल ग्रोथ ही उच्च-कार्यक्षमता असलेल्या सेमीकंडक्टर उपकरणांच्या निर्मितीमध्ये मुख्य प्रक्रिया आहे. क्रिस्टल ग्रोथ उपकरणांची स्थिरता, सुस्पष्टता आणि सुसंगतता सिलिकॉन कार्बाइड इनगॉट्सची गुणवत्ता आणि उत्पन्न थेट निर्धारित करते. फिजिकल व्हेपर ट्रान्सपोर्ट (PVT) तंत्रज्ञानाच्या वैशिष्ट्यांवर आधारित, Veteksemi ने सिलिकॉन कार्बाइड क्रिस्टलच्या वाढीसाठी प्रतिरोधक हीटिंग फर्नेस विकसित केली आहे, जी 6-इंच, 8-इंच आणि 12-इंच सिलिकॉन कार्बाइड क्रिस्टल्सची स्थिर वाढ सक्षम करते ज्यामध्ये पूर्ण-सुसंगतता आणि सामग्री-कंडक्टिव्ह, अर्ध-वाहक प्रणाली आहे. तापमान, दाब आणि शक्ती यांच्या अचूक नियंत्रणाद्वारे, ते EPD (Etch Pit Density) आणि BPD (बेसल प्लेन डिस्लोकेशन) सारखे क्रिस्टल दोष प्रभावीपणे कमी करते, तर कमी ऊर्जा वापर आणि औद्योगिक मोठ्या प्रमाणात उत्पादनाच्या उच्च मानकांची पूर्तता करण्यासाठी कॉम्पॅक्ट डिझाइन वैशिष्ट्यीकृत करते.

SiC बियाणे बाँडिंग तंत्रज्ञान ही एक प्रमुख प्रक्रिया आहे जी क्रिस्टल वाढीवर परिणाम करते. VETEK ने या प्रक्रियेच्या वैशिष्ट्यांवर आधारित बियाणे बाँडिंगसाठी एक विशेष व्हॅक्यूम हॉट-प्रेस फर्नेस विकसित केला आहे. भट्टी बियाणे जोडणी प्रक्रियेदरम्यान निर्माण होणारे विविध दोष प्रभावीपणे कमी करू शकते, ज्यामुळे उत्पादन आणि क्रिस्टल इनगॉटची अंतिम गुणवत्ता सुधारते.

Veteksemicon SiC Coated Epitaxial Reactor चेंबर हा अर्धसंवाहक एपिटॅक्सियल ग्रोथ प्रक्रियेच्या मागणीसाठी डिझाइन केलेला एक मुख्य घटक आहे. प्रगत रासायनिक वाष्प निक्षेपण (CVD) वापरून, हे उत्पादन उच्च-शक्तीच्या ग्रेफाइट सब्सट्रेटवर दाट, उच्च-शुद्धता SiC कोटिंग तयार करते, परिणामी उच्च-तापमान स्थिरता आणि गंज प्रतिकार होतो. हे उच्च-तापमान प्रक्रियेच्या वातावरणात अभिक्रियाकारक वायूंच्या संक्षारक प्रभावांना प्रभावीपणे प्रतिकार करते, कण दूषिततेला लक्षणीयरीत्या दाबते, सातत्यपूर्ण एपिटॅक्सियल सामग्रीची गुणवत्ता आणि उच्च उत्पादन सुनिश्चित करते आणि प्रतिक्रिया कक्षाचे देखभाल चक्र आणि आयुष्य लक्षणीयरीत्या वाढवते. SiC आणि GaN सारख्या वाइड-बँडगॅप सेमीकंडक्टरची उत्पादन कार्यक्षमता आणि विश्वासार्हता सुधारण्यासाठी ही एक प्रमुख निवड आहे.

व्हेटेकसेमिकॉनची सिलिकॉन कॅसेट बोट ही एक अचूक-अभियांत्रिकी वेफर वाहक आहे जी विशेषतः उच्च-तापमान अर्धसंवाहक भट्टी अनुप्रयोगांसाठी विकसित केली गेली आहे, ज्यामध्ये ऑक्सिडेशन, डिफ्यूजन, ड्राइव्ह-इन आणि ॲनिलिंग समाविष्ट आहे. अल्ट्रा-हाय-प्युरिटी सिलिकॉनपासून बनवलेले आणि प्रगत दूषित-नियंत्रण मानकांपर्यंत पूर्ण झालेले, हे थर्मलली स्थिर, रासायनिकदृष्ट्या निष्क्रिय प्लॅटफॉर्म प्रदान करते जे स्वतः सिलिकॉन वेफर्सच्या गुणधर्मांशी जवळून जुळते. हे संरेखन थर्मल ताण कमी करते, स्लिप आणि दोष निर्मिती कमी करते आणि संपूर्ण बॅचमध्ये अपवादात्मकपणे एकसमान उष्णता वितरण सुनिश्चित करते